精密研磨抛光系统
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- 更新时间:2018-10-10
Logitech PM5精密研磨抛光系统是带有一个工作站的台式机,适用于科学研究水平的研磨和抛光,能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理。具有加工样品*性高、规格水平高、表面光洁等特点。
Logitech PM5精密研磨抛光系统是带有一个工作站的台式机,适用于科学研究水平的研磨和抛光,能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理。
具有加工样品*性高、规格水平高、表面光洁等特点。
精密研磨抛光系统特点:
1、完善的控制系统
在半导体、光电、光学以及地质等应用领域,Logitech PM5是值得信赖的选择,典型的应用包括:晶片背减、光纤及波导器件制备、激光棒抛光、MEMS等。无论是对何种高质量表面平整度控制的需求,PM5均能给予用户满意的处理效果。
研磨/抛光的所有功能,包括盘转速、摆臂设定、滴料速度,均显示在操作控制显示屏,通过操纵杆对操作控制显示屏的参数进行设定。
2、自动化功能增强
机器运行内置计时器,在无人看管时可以设定计时器,计时器时间设定范围0-10小时,在处理材料完成时机器自动停止(抛光状态下报警不停机),控制系统向操作员发出蜂鸣提醒。
为了进一步提高易用性,Logitech PM5部分配备真空管道,以联通真空装置,VS2真空系统单元独立放置,在提供真空系统同时具有过滤防污染的功能。可以看到,Logitech的全套备件配置使用为用户带来了足够大的加工灵活性。
Logitech PM5夹具具有在线监测功能,可实时显示样品处理的去除量,监测精度1um;为适应各种大小尺寸的样品处理,夹具对晶片作用压力可以连续调节,通过增加夹具压力块,压力调节范围zui大可达0.1 - 7Kg;夹具zui大处理样品尺寸4英寸。
3、直观的操作控制系统
快速、高效的研磨/抛光盘,便于拆卸,方便用户在不同的研磨过程之间的快速转换,以及研磨和抛光工艺的变换。这种灵活性使PM5成为实验室空间有限的情况下的首要选择。
Logitech PM5具有耐化学腐蚀的配置,适合在腐蚀性物质环境中使用,如砷化镓抛光中常常使用的Chemlox抛光液。耐腐蚀的设计保障了系统在酸碱工作环境中运行。
4、精准的滴料系统
磨料自动填料系统通过一个可调导料槽,确保精准的控制料液流从料桶滴入研磨盘或抛光盘。滴料的控制设计,具有很高的经济性,特别适合多样化研究使用。
此外,可拆卸的料液托盘导出废料,使其流入废料桶,从而保障设备安全稳定的长时间持续运行,同时减轻设备的清理工作。
5、完整的参数控制,确保结果*
研磨/抛光的工艺过程中,盘的表面情况会在一定程度上反馈在样品表面,通过控制研磨盘的盘面型从而提高样品平整度;通过保持抛光盘的表面状态从而提高样品表面质量。
为获得*结果,设备往复运动的速度和摆幅可以精确的控制样品处理效果,从而提高了结果的高重复性和高*性。
技术规格: